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真空镀铝工艺对设备•●、被镀基材的要求

来源:本站    发布时间:2017/6/16 16:42:52    点击量:

真空镀铝工艺对设备•●、被镀基材的要求如下文所示:

一.对设备的要求  

(1)主辊的工作温度在零下5~8℃范围░,制冷时间小于25min。

(2)收•●、放卷张力恒定░,膜卷收卷平整 。

(3)抽真空时间小于20min。

(4)真空镀铝工艺要求真空系统的极限真空度达到10-3pa░,以免出现褐色条纹或铝层厚度不均现象。

 

 

真空镀铝产品

 

 

二.真空镀铝对被镀基材的要求:

(1)基材表面清洁光滑•●、平整•●、厚度均匀░,即基材应具有一定的强度和表面平滑度;挺度和摩擦系数适当。

(2) 耐热性好░,基材经得起蒸发源的热辐射和蒸发物的冷凝潜热░,基材含水量低于0.1%。。

(3)薄膜基材产生的挥发性物质要少;表面润湿张力大于38dyn/cm。

(4)对镀铝层的粘接性良好;对于非极性材料░,真空镀铝前应进行表面处理•●、以提高与镀层的粘接性。

 

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